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二氧化矽薄膜研製暨靜態讀寫擦測試系統改良研究

~

丁肇酉

二氧化矽薄膜研製暨靜態讀寫擦測試系統改良研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	林政毅
其他作者:	丁肇酉
其他作者:	周麗新
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	48頁 : 11x15公分;
標題:	物理 -
附註:	MOE86-0002-853366

二氧化矽薄膜研製暨靜態讀寫擦測試系統改良研究
林政毅

二氧化矽薄膜研製暨靜態讀寫擦測試系統改良研究 / 林政毅撰 ; 丁肇酉指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 48頁 ; 11x15公分.
MOE86-0002-853366.
物理

丁肇酉

二氧化矽薄膜研製暨靜態讀寫擦測試系統改良研究
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101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 二氧化矽薄膜研製暨靜態讀寫擦測試系統改良研究 $f 林政毅撰 $g 丁肇酉指導 $g 周麗新指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 48頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0002-853366
606 $a 物理 $3 2573
700 $a 林政毅 $4 撰 $3 93618
702 $a 丁肇酉 $4 指導 $3 93619
702 $a 周麗新 $4 指導 $3 61939
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000517

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館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833330000000024

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 330 4410

1.一般(Normal)

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0

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