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濺鍍法沉積氮錠化鎵薄膜特性之研究
~
陳世峰
濺鍍法沉積氮錠化鎵薄膜特性之研究
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
作者:
陳世峰
其他作者:
黃思元
出版地:
彰化縣大村鄉
出版者:
大葉大學電機工程學系所;
出版年:
1998
面頁冊數:
28頁 : 29x21公分;
標題:
電機工程 -
濺鍍法沉積氮錠化鎵薄膜特性之研究
陳世峰
濺鍍法沉積氮錠化鎵薄膜特性之研究
/ 陳世峰 撰 ; 黃思元 撰 - 彰化縣大村鄉 : 大葉大學電機工程學系所, 1998. - 28頁 ; 29x21公分.
電機工程
黃思元
濺鍍法沉積氮錠化鎵薄膜特性之研究
LDR
:00351nam 2200121 450
001
103263
009
8900832
100
$a
20100607d1998 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
濺鍍法沉積氮錠化鎵薄膜特性之研究
$f
陳世峰 撰
$g
黃思元 撰
210
$a
彰化縣大村鄉
$c
大葉大學電機工程學系所
$d
1998
215
$a
28頁
$d
29x21公分
606
$a
電機工程
$3
9918
700
$a
陳世峰
$4
撰
$3
91739
702
$a
黃思元
$4
撰
$3
91740
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
20000113
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二樓學生專題報告區
館藏
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典藏地名稱
館藏流通類別
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827448000000005
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學生專題報告(student report)
GR 448 7542
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