清大電機工程研究所

薄氧氮化矽電漿製程之傷害=thin oxynitride damage from gate charging during plasma processing by: 清大電機工程研究所; 葉鳳生 (Microfilm)

超大型積體電路的鋁合金導線良率和電遷移研究 - 子計畫一:鋁合金l線良率及可靠性分析=yield and electromigration modeling... by: 徐清祥; 清大電機工程研究所 (Microfilm)