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積體電路電漿乾蝕刻研究:電漿清除=studies on the plas... ~ 交通大學應用化學研究所

 

• 積體電路電漿乾蝕刻研究:電漿清除=studies on the plasma dry etching in ic fabrication(iii):plasma stripping

• 紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
  其他作者:	龍文安
  團體作者:	交通大學應用化學研究所
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  出版年:	1992
  面頁冊數:	7頁 : 11x15公分;
  附註:	NSC81-0404-E009-612

• 積體電路電漿乾蝕刻研究:電漿清除=studies on the plasma dry etching in ic fabrication(iii):plasma stripping
• 交通大學應用化學研究所
  
  積體電路電漿乾蝕刻研究:電漿清除=studies on the plasma dry etching in ic fabrication(iii):plasma stripping / 交通大學應用化學研究所 ; 龍文安 著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1992. - 7頁 ; 11x15公分.
  NSC81-0404-E009-612.
  
  龍文安

• 積體電路電漿乾蝕刻研究:電漿清除=studies on the plasma dry etching in ic fabrication(iii):plasma stripping
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條碼號	典藏地名稱	館藏流通類別	資料類型	索書號	使用類型	借閱狀態	預約狀態	備註欄	附件
804660000000015	三樓視聽資料區	3.不外借	微縮資料(microform)	MF 660 XXXX	1.一般(Normal)	在架	0

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