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積體電路電漿乾蝕刻研究(二):表面強化=studies on the p...

交通大學應用化學研究所

積體電路電漿乾蝕刻研究(二):表面強化=studies on the plasma dry etching in vlsi fabrication(ii):surface enhancement

積體電路電漿乾蝕刻研究(二):表面強化=studies on the plasma dry etching in vlsi fabrication(ii):surface enhancement
交通大學應用化學研究所

積體電路電漿乾蝕刻研究(二):表面強化=studies on the plasma dry etching in vlsi fabrication(ii):surface enhancement / 交通大學應用化學研究所 ; 龍文安著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1991. - 15頁 ; 11x15公分.
NSC80-0404-E009-081.

龍文安

積體電路電漿乾蝕刻研究(二):表面強化=studies on the plasma dry etching in vlsi fabrication(ii):surface enhancement
LDR:00479nhm 2200133 450 001 65216
009 8510579
100 $a 20100607d1991 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 積體電路電漿乾蝕刻研究(二):表面強化=studies on the plasma dry etching in vlsi fabrication(ii):surface enhancement $f 交通大學應用化學研究所 $g 龍文安著
210 $a 台北市 $c 科學技術資料中心 $d 1991
215 $a 15頁 $d 11x15公分
300 $a NSC80-0404-E009-081
702 $a 龍文安 $4 著 $3 64018
710 $a 交通大學應用化學研究所 $3 61947
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 19960806