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毫微米元件電子束曝光精確度之研究=an improrement of ... ~ 中村-光張俊彥

 

• 毫微米元件電子束曝光精確度之研究=an improrement of the electron baem exposura accruacy

• 紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
  團體作者:	中村-光張俊彥
  其他團體作者:	交大電子工程研究所
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  出版年:	1996
  面頁冊數:	38頁 : 11x15公分;
  附註:	NSC82-0404-E009-202

• 毫微米元件電子束曝光精確度之研究=an improrement of the electron baem exposura accruacy
• 中村-光張俊彥
  
  毫微米元件電子束曝光精確度之研究=an improrement of the electron baem exposura accruacy / 中村-光張俊彥 ; 交大電子工程研究所 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1996. - 38頁 ; 11x15公分.
  NSC82-0404-E009-202.

• 毫微米元件電子束曝光精確度之研究=an improrement of the electron baem exposura accruacy
• LDR:00418nhm 2200121 450 001 320302
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