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含pc基光學活性高分子之合成及其在光學分割上之應用研究

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劉瑞祥

含pc基光學活性高分子之合成及其在光學分割上之應用研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	劉瑞祥
其他團體作者:	成功大學化學工程研究所
出版地:	台北市
出版者:	科學技術資料中心;
面頁冊數:	32頁 : 11x15公分;
標題:	化學工程 -
附註:	NSC84-2216-E006-005

含pc基光學活性高分子之合成及其在光學分割上之應用研究
劉瑞祥

含pc基光學活性高分子之合成及其在光學分割上之應用研究 / 劉瑞祥 ; 成功大學化學工程研究所 - 台北市 : 科學技術資料中心 - 32頁 ; 11x15公分.
NSC84-2216-E006-005.
化學工程

含pc基光學活性高分子之合成及其在光學分割上之應用研究
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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

804660000000107

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 660 7213

1.一般(Normal)

在架

0

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