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發展[微波電漿後放氧化法]暨電子迴旋共振電漿氧化法製作極薄養化層及其可靠度之研究
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清華大學電機工程研究所
發展[微波電漿後放氧化法]暨電子迴旋共振電漿氧化法製作極薄養化層及其可靠度之研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
黃惠良
其他團體作者:
清華大學電機工程研究所
出版地:
台北市
出版者:
科學技術資料中心;
面頁冊數:
128頁 : 11x15公分;
標題:
電機工程 -
附註:
NSC84-2215-E007-023
發展[微波電漿後放氧化法]暨電子迴旋共振電漿氧化法製作極薄養化層及其可靠度之研究
黃惠良
發展[微波電漿後放氧化法]暨電子迴旋共振電漿氧化法製作極薄養化層及其可靠度之研究
/ 黃惠良 撰 ; 清華大學電機工程研究所 - 台北市 : 科學技術資料中心 - 128頁 ; 11x15公分.
NSC84-2215-E007-023.
電機工程
發展[微波電漿後放氧化法]暨電子迴旋共振電漿氧化法製作極薄養化層及其可靠度之研究
LDR
:00496nhm 2200145 450
001
87240
009
8809361
100
$a
20100607 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
發展[微波電漿後放氧化法]暨電子迴旋共振電漿氧化法製作極薄養化層及其可靠度之研究
$f
黃惠良 撰
$g
清華大學電機工程研究所
210
$a
台北市
$c
科學技術資料中心
215
$a
128頁
$d
11x15公分
300
$a
NSC84-2215-E007-023
606
$a
電機工程
$3
9918
700
$a
黃惠良
$4
撰
$3
62284
712
$a
清華大學電機工程研究所
$3
61930
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
19991008
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
19991105
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全部
三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
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使用類型
借閱狀態
預約狀態
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附件
804621300000520
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料
MF 621.3 4453 V1
1.一般(Normal)
在架
0
804621300000587
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料
MF 621.3 4453 V2
1.一般(Normal)
在架
0
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1
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