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矽鍺異質接面雙極電晶體之研製與理論模擬分析=the modeling a...
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成功大學電機工程學研究所
矽鍺異質接面雙極電晶體之研製與理論模擬分析=the modeling and fabrication of si/sil-xgex gbts
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
王水進
其他團體作者:
成功大學電機工程學研究所
出版地:
台北市
出版者:
科學技術資料中心;
出版年:
1993
面頁冊數:
103頁 : 11x15公分;
附註:
NSC82-0404-E006-438
矽鍺異質接面雙極電晶體之研製與理論模擬分析=the modeling and fabrication of si/sil-xgex gbts
王水進
矽鍺異質接面雙極電晶體之研製與理論模擬分析=the modeling and fabrication of si/sil-xgex gbts
/ 王水進 著 ; 成功大學電機工程學研究所 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1993. - 103頁 ; 11x15公分.
NSC82-0404-E006-438.
矽鍺異質接面雙極電晶體之研製與理論模擬分析=the modeling and fabrication of si/sil-xgex gbts
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19960815
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三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
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804621300000065
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3.不外借
微縮資料
MF 621.3 XXXX V1
1.一般(Normal)
在架
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804621300000066
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料
MF 621.3 XXXX V2
1.一般(Normal)
在架
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2 筆 • 頁數 1 •
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