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vlsi用淺接面製程研究與二次離子質譜術發展=fabrication o... ~ 凌永健

 

• vlsi用淺接面製程研究與二次離子質譜術發展=fabrication of shallow junctions and development of sims characteriaztion ie...

• 紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
  作者:	凌永健
  其他團體作者:	清華大學化學系
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  出版年:	1993
  面頁冊數:	38頁 : 11x15公分;
  附註:	NSC82-0404-E007-216

• vlsi用淺接面製程研究與二次離子質譜術發展=fabrication of shallow junctions and development of sims characteriaztion ie...
• 凌永健
  
  vlsi用淺接面製程研究與二次離子質譜術發展=fabrication of shallow junctions and development of sims characteriaztion ie... / 凌永健 著 ; 清華大學化學系 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1993. - 38頁 ; 11x15公分.
  NSC82-0404-E007-216.

• vlsi用淺接面製程研究與二次離子質譜術發展=fabrication of shallow junctions and development of sims characteriaztion ie...
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條碼號	典藏地名稱	館藏流通類別	資料類型	索書號	使用類型	借閱狀態	預約狀態	備註欄	附件
804460000000334	三樓視聽資料區	3.不外借	微縮資料	MF 460 XXXX	1.一般(Normal)	在架	0

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