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低溫選擇性矽磊晶成長=low temperature sillicon ... ~ 國立清華大學材料科學工程中心

 

• 低溫選擇性矽磊晶成長=low temperature sillicon selective epitaxial growth

• 紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
  其他作者:	游萃蓉
  團體作者:	國立清華大學材料科學工程中心
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  出版年:	1991
  面頁冊數:	25頁 : 11x15公分;
  附註:	NSC80-0404-E007-036

• 低溫選擇性矽磊晶成長=low temperature sillicon selective epitaxial growth
• 國立清華大學材料科學工程中心
  
  低溫選擇性矽磊晶成長=low temperature sillicon selective epitaxial growth / 國立清華大學材料科學工程中心 ; 游萃蓉 著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1991. - 25頁 ; 11x15公分.
  NSC80-0404-E007-036.
  
  游萃蓉

• 低溫選擇性矽磊晶成長=low temperature sillicon selective epitaxial growth
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條碼號	典藏地名稱	館藏流通類別	資料類型	索書號	使用類型	借閱狀態	預約狀態	備註欄	附件
804440300000186	三樓視聽資料區	3.不外借	微縮資料	MF 440.3 XXXX	1.一般(Normal)	在架	0

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