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二矽化鉬與二矽化鎢在單晶矽與多晶矽上的氧化行為研究

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洪旭甫

二矽化鉬與二矽化鎢在單晶矽與多晶矽上的氧化行為研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	洪旭甫
其他團體作者:	清華大學材料科學與工程所
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	126頁 : 11x15公分;
標題:	工程材料 -
附註:	MOE88-0002-803538-D

二矽化鉬與二矽化鎢在單晶矽與多晶矽上的氧化行為研究
洪旭甫

二矽化鉬與二矽化鎢在單晶矽與多晶矽上的氧化行為研究 / 洪旭甫撰 ; 清華大學材料科學與工程所 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 126頁 ; 11x15公分.
MOE88-0002-803538-D.
工程材料

二矽化鉬與二矽化鎢在單晶矽與多晶矽上的氧化行為研究
LDR:00430nhm 2200133 450 001 305936
009 9128561
100 $a 20100608d1999 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 二矽化鉬與二矽化鎢在單晶矽與多晶矽上的氧化行為研究 $f 洪旭甫撰 $g 清華大學材料科學與工程所
210 $a 台北市 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 $d 1999
215 $a 126頁 $d 11x15公分
300 $a MOE88-0002-803538-D
606 $a 工程材料 $3 14660
700 $a 洪旭甫 $4 撰 $3 329378
712 $a 清華大學材料科學與工程所 $3 329379
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20021228

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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833440300000731

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 440.3 3445 V1

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833440300000732

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3.不外借

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MF 440.3 3445 V2

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