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同步輻射x光光刻術發展之可行性評估-子計畫二:同步輻射x光光刻罩製作

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國立交通大學電子工程學系

同步輻射x光光刻術發展之可行性評估-子計畫二:同步輻射x光光刻罩製作

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	蘇翔
其他團體作者:	國立交通大學電子工程學系
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:	50頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	NSC85-2745-P009-001

同步輻射x光光刻術發展之可行性評估-子計畫二:同步輻射x光光刻罩製作
蘇翔

同步輻射x光光刻術發展之可行性評估-子計畫二:同步輻射x光光刻罩製作 / 蘇翔撰 ; 國立交通大學電子工程學系 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 50頁 ; 11x15公分.
NSC85-2745-P009-001.
電子工程

同步輻射x光光刻術發展之可行性評估-子計畫二:同步輻射x光光刻罩製作
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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

804621381000371

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 621.381 4487-4

1.一般(Normal)

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