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複晶矽薄膜電晶體相關技術之開發-子計畫二:高品質複晶矽薄膜電晶體介電絶緣層之研究

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國立交通大學電子工程學系

複晶矽薄膜電晶體相關技術之開發-子計畫二:高品質複晶矽薄膜電晶體介電絶緣層之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	葉清發
其他團體作者:	國立交通大學電子工程學系
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:	128頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	NSC85-2215-E009-036

複晶矽薄膜電晶體相關技術之開發-子計畫二:高品質複晶矽薄膜電晶體介電絶緣層之研究
葉清發

複晶矽薄膜電晶體相關技術之開發-子計畫二:高品質複晶矽薄膜電晶體介電絶緣層之研究 / 葉清發撰 ; 國立交通大學電子工程學系 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 128頁 ; 11x15公分.
NSC85-2215-E009-036.
電子工程

複晶矽薄膜電晶體相關技術之開發-子計畫二:高品質複晶矽薄膜電晶體介電絶緣層之研究
LDR:00456nhm 2200133 450 001 299518
009 9102675
100 $a 20100608 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 複晶矽薄膜電晶體相關技術之開發-子計畫二:高品質複晶矽薄膜電晶體介電絶緣層之研究 $f 葉清發撰 $g 國立交通大學電子工程學系
210 $a 台北市 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心
215 $a 128頁 $d 11x15公分
300 $a NSC85-2215-E009-036
606 $a 電子工程 $3 505
700 $a 葉清發 $4 撰 $3 61986
712 $a 國立交通大學電子工程學系 $3 78731
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20020121

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館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

804621381000321

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 621.381 4431-1 V1

1.一般(Normal)

在架

0

804621381000322

三樓視聽資料區

3.不外借

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MF 621.381 4431-1 V2

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