大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

低介電常數材料對二氧化矽覆蓋層化學機械研磨行為之影響

~

中興大學機械工程所

低介電常數材料對二氧化矽覆蓋層化學機械研磨行為之影響

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	劉興村
其他團體作者:	中興大學機械工程所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	88頁 : 11x15公分;
標題:	機械工程 -
附註:	MOE88-0006-78761016

低介電常數材料對二氧化矽覆蓋層化學機械研磨行為之影響
劉興村

低介電常數材料對二氧化矽覆蓋層化學機械研磨行為之影響 / 劉興村撰 ; 中興大學機械工程所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 88頁 ; 11x15公分.
MOE88-0006-78761016.
機械工程

低介電常數材料對二氧化矽覆蓋層化學機械研磨行為之影響
LDR:00411nhm 2200133 450 001 290497
009 9204515
100 $a 20100608d1999 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 低介電常數材料對二氧化矽覆蓋層化學機械研磨行為之影響 $f 劉興村撰 $g 中興大學機械工程所
210 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 $d 1999
215 $a 88頁 $d 11x15公分
300 $a MOE88-0006-78761016
606 $a 機械工程 $3 15001
700 $a 劉興村 $4 撰 $3 318965
712 $a 中興大學機械工程所 $3 318722
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20030226

筆 0 讀者評論

館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833446000001935

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 446 7274

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

1 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入