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Characterization of plasma-enhanced ...
~
HessDennis W. editor
Characterization of plasma-enhanced cvd processes
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
書名/作者:
Characterization of plasma-enhanced cvd processes/ Hess,Dennis W. editor;Ibbotson,Dale E. editor;Lucovsky,Gerald editor
作者:
HessDennis W. editor
其他作者:
IbbotsonDale E. editor
出版者:
Pennsylvania : Materials Research Society, 1990
面頁冊數:
250頁; 24x16公分
標題:
Plasma-Enhanced chemical...
標題:
Integrated circuits-Design...
ISBN:
1558990534(精裝)
Characterization of plasma-enhanced cvd processes
HessDennis W. editor
Characterization of plasma-enhanced cvd processes
Hess,Dennis W. editor;Ibbotson,Dale E. editor;Lucovsky,Gerald editor - PennsylvaniaMaterials Research Society1990 - 250頁24x16公分 - MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS165.
ISBN: 1558990534(精裝)Subjects--Topical Terms:
157466
Plasma-Enhanced chemical...
Characterization of plasma-enhanced cvd processes
LDR
:00479nam 2200145 450
001
159699
008
100623t1990 us a a 000 0 eng d
020
$a
1558990534(精裝)
035
$a
8311783
040
$b
eng
$c
DYU
041
$a
eng
044
$a
us
100
$a
HessDennis W. editor
$3
157463
245
1 0
$a
Characterization of plasma-enhanced cvd processes
$c
Hess,Dennis W. editor;Ibbotson,Dale E. editor;Lucovsky,Gerald editor
260
$a
Pennsylvania
$b
Materials Research Society
$c
1990
300
$a
250頁
$c
24x16公分
490
$a
MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS
$v
165
650
$a
Plasma-Enhanced chemical...
$3
157466
650
$a
Integrated circuits-Design...
$3
137349
700
$a
IbbotsonDale E. editor
$3
157464
700
$a
LucovskyGerald editor
$3
157465
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全部
四樓西文圖書區
館藏
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1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
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使用類型
借閱狀態
預約狀態
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附件
801621381500050
四樓西文圖書區
1.圖書流通
圖書
621.3815 L964
1.一般(Normal)
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