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鉭及氮化鉭複合層應用於積體電路銅金屬化之擴散障礙特性研究
~
石親樺
鉭及氮化鉭複合層應用於積體電路銅金屬化之擴散障礙特性研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
石親樺
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
102頁 :
標題:
工程材料 -
附註:
MOE89-0007-8618525;張立 指導教授
鉭及氮化鉭複合層應用於積體電路銅金屬化之擴散障礙特性研究
石親樺
鉭及氮化鉭複合層應用於積體電路銅金屬化之擴散障礙特性研究
/ 石親樺 撰 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 102頁.
MOE89-0007-8618525;張立 指導教授.
工程材料
鉭及氮化鉭複合層應用於積體電路銅金屬化之擴散障礙特性研究
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20010131
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三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
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833440300000516
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微縮資料
MF 440.3 1004 V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
833440300000517
三樓視聽資料區
3.不外借
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MF 440.3 1004 V2
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