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極大型積體電路銅製程關鍵技術之研究-銅/溫差液相沈積含氟矽氧化膜低介常數...
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蘇育清
極大型積體電路銅製程關鍵技術之研究-銅/溫差液相沈積含氟矽氧化膜低介常數msq之製程整合
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
蘇育清
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
137頁 :
標題:
電子工程 -
附註:
MOE87-0007-8611563；葉清發 指導教授
極大型積體電路銅製程關鍵技術之研究-銅/溫差液相沈積含氟矽氧化膜低介常數msq之製程整合
蘇育清
極大型積體電路銅製程關鍵技術之研究-銅/溫差液相沈積含氟矽氧化膜低介常數msq之製程整合
/ 蘇育清 撰 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 137頁.
MOE87-0007-8611563；葉清發 指導教授.
電子工程
極大型積體電路銅製程關鍵技術之研究-銅/溫差液相沈積含氟矽氧化膜低介常數msq之製程整合
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20010118
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三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
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833448600000590
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3.不外借
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1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
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833448600000591
三樓視聽資料區
3.不外借
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MF 448.6 4403-A V2
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