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以反應式濺鍍法製作低溫度係數(ta,ti)薄膜電阻與高介電常數(ta2o...

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李佩娟

以反應式濺鍍法製作低溫度係數(ta,ti)薄膜電阻與高介電常數(ta2o5)1-x-(tio2)x薄膜電容

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	李佩娟
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	85頁 : 11x15公分;
標題:	工程材料 -
附註:	MOE87-0002-863543; 吳泰伯指導教授

以反應式濺鍍法製作低溫度係數(ta,ti)薄膜電阻與高介電常數(ta2o5)1-x-(tio2)x薄膜電容
李佩娟

以反應式濺鍍法製作低溫度係數(ta,ti)薄膜電阻與高介電常數(ta2o5)1-x-(tio2)x薄膜電容 / 李佩娟撰 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 85頁 ; 11x15公分.
MOE87-0002-863543; 吳泰伯指導教授.
工程材料

以反應式濺鍍法製作低溫度係數(ta,ti)薄膜電阻與高介電常數(ta2o5)1-x-(tio2)x薄膜電容
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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833440300000338

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 440.3 4024

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