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深次微米元件中鈦矽化物薄膜生成與熱穩定性之研究
~
鄭紹良
深次微米元件中鈦矽化物薄膜生成與熱穩定性之研究
Record Type:
Microfilm : monographic
Author:
鄭紹良
Place of Publication:
台北市
Published:
國科會科學技術資料中心;
Description:
199頁 : 11x15公分;
Subject:
工程材料 -
Notes:
MOE87-0002-823523-D; 陳力俊 指導教授
深次微米元件中鈦矽化物薄膜生成與熱穩定性之研究
鄭紹良
深次微米元件中鈦矽化物薄膜生成與熱穩定性之研究
/ 鄭紹良 撰 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 199頁 ; 11x15公分.
MOE87-0002-823523-D; 陳力俊 指導教授.
工程材料
深次微米元件中鈦矽化物薄膜生成與熱穩定性之研究
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