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射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究

~

凌國基

射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究

纪录类型:	[NT 13] Microfilm : 单行本
作者:	王福堂
其他作者:	凌國基
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面页册数:	118頁 : 11x15公分;
标题:	物理 -
附注:	MOE86-1002-484326153

射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
王福堂

射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究 / 王福堂撰 ; 凌國基指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 118頁 ; 11x15公分.
MOE86-1002-484326153.
物理

凌國基

射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
LDR:00402nhm 2200133 450 001 109718
009 8913746
100 $a 20100607 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究 $f 王福堂撰 $g 凌國基指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 118頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-1002-484326153
606 $a 物理 $3 2573
700 $a 王福堂 $4 撰 $3 99331
702 $a 凌國基 $4 指導 $3 64667
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000612

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馆藏

2 笔 • 页数 1 •
1

典藏地名称

馆藏流通类别

833330000000108

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 330 1039 V1

1.一般(Normal)

[NT 15000103] null

0

833330000000109

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 330 1039 V2

1.一般(Normal)

[NT 15000103] null

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