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射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
~
凌國基
射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
王福堂
其他作者:
凌國基
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
118頁 : 11x15公分;
標題:
物理 -
附註:
MOE86-1002-484326153
射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
王福堂
射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
/ 王福堂 撰 ; 凌國基 指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 118頁 ; 11x15公分.
MOE86-1002-484326153.
物理
凌國基
射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
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20000612
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三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
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條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
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833330000000108
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料
MF 330 1039 V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
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833330000000109
三樓視聽資料區
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微縮資料
MF 330 1039 V2
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2 筆 • 頁數 1 •
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