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反應式濺鍍法製作二氧化銥薄膜與基材介面的特性研究

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黃職煌

反應式濺鍍法製作二氧化銥薄膜與基材介面的特性研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	黃職煌
其他作者:	黃鶯聲
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	82頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	MOE86-0102-8502086

反應式濺鍍法製作二氧化銥薄膜與基材介面的特性研究
黃職煌

反應式濺鍍法製作二氧化銥薄膜與基材介面的特性研究 / 黃職煌撰 ; 黃鶯聲指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 82頁 ; 11x15公分.
MOE86-0102-8502086.
電子工程

黃鶯聲

反應式濺鍍法製作二氧化銥薄膜與基材介面的特性研究
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200 1 $a 反應式濺鍍法製作二氧化銥薄膜與基材介面的特性研究 $f 黃職煌撰 $g 黃鶯聲指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 82頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0102-8502086
606 $a 電子工程 $3 505
700 $a 黃職煌 $4 撰 $3 98495
702 $a 黃鶯聲 $4 指導 $3 61021
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000609

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館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833448600000399

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 448.6 4419-A

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

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