大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

閘極薄氧化層的界面處理

~

荊鳳德

閘極薄氧化層的界面處理

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	鄭逸中
其他作者:	蔡中
其他作者:	荊鳳德
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	40頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	MOE86-0007-8511513

閘極薄氧化層的界面處理
鄭逸中

閘極薄氧化層的界面處理 / 鄭逸中撰 ; 蔡中指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 40頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8511513.
電子工程

蔡中

閘極薄氧化層的界面處理
LDR:00366nhm 2200133 450 001 106013
009 8909490
100 $a 20100607 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 閘極薄氧化層的界面處理 $f 鄭逸中撰 $g 蔡中指導 $g 荊鳳德指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 40頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0007-8511513
606 $a 電子工程 $3 505
700 $a 鄭逸中 $4 撰 $3 95316
702 $a 蔡中 $4 指導 $3 95074
702 $a 荊鳳德 $4 指導 $3 62848
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000525

筆 0 讀者評論

館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833448600000238

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 448.6 8735

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

1 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入