大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

矽化鎳製程在超大型積體電路上應用之研究

~

侯拓宏

矽化鎳製程在超大型積體電路上應用之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	侯拓宏
其他作者:	雷添福
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	90頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	MOE86-0007-8511501

矽化鎳製程在超大型積體電路上應用之研究
侯拓宏

矽化鎳製程在超大型積體電路上應用之研究 / 侯拓宏撰 ; 雷添福指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 90頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8511501.
電子工程

雷添福

矽化鎳製程在超大型積體電路上應用之研究
LDR:00375nhm 2200133 450 001 105987
009 8909462
100 $a 20100607 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 矽化鎳製程在超大型積體電路上應用之研究 $f 侯拓宏撰 $g 雷添福指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 90頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0007-8511501
606 $a 電子工程 $3 505
700 $a 侯拓宏 $4 撰 $3 95294
702 $a 雷添福 $4 指導 $3 60531
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000524

筆 0 讀者評論

館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833448600000226

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 448.6 2753

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

1 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入