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超薄氧化層在n-通道金氧半場效電晶體應用之研究

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吳師道

超薄氧化層在n-通道金氧半場效電晶體應用之研究

Record Type:	Microfilm : monographic
Author:	吳師道
Secondary Intellectual Responsibility:	陳明哲
Place of Publication:	台北市
Published:	國科會科學技術資料中心;
Description:	90頁 : 11x15公分;
Subject:	電子工程 -
Notes:	MOE86-0007-8511541

超薄氧化層在n-通道金氧半場效電晶體應用之研究
吳師道

超薄氧化層在n-通道金氧半場效電晶體應用之研究 / 吳師道撰 ; 陳明哲指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 90頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8511541.
電子工程

陳明哲

超薄氧化層在n-通道金氧半場效電晶體應用之研究
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