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利用超臨界流體萃取配合放射性示蹤技術進行矽晶圓表面超潔淨清洗效率之探討

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楊末雄

利用超臨界流體萃取配合放射性示蹤技術進行矽晶圓表面超潔淨清洗效率之探討

纪录类型:	[NT 13] Microfilm : 单行本
作者:	詹育智
其他作者:	楊末雄
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面页册数:	94頁 : 11x15公分;
标题:	核子工程 -
附注:	MOE86-0002-854522

利用超臨界流體萃取配合放射性示蹤技術進行矽晶圓表面超潔淨清洗效率之探討
詹育智

利用超臨界流體萃取配合放射性示蹤技術進行矽晶圓表面超潔淨清洗效率之探討 / 詹育智撰 ; 楊末雄指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 94頁 ; 11x15公分.
MOE86-0002-854522.
核子工程

楊末雄

利用超臨界流體萃取配合放射性示蹤技術進行矽晶圓表面超潔淨清洗效率之探討
LDR:00422nhm 2200133 450 001 104563
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200 1 $a 利用超臨界流體萃取配合放射性示蹤技術進行矽晶圓表面超潔淨清洗效率之探討 $f 詹育智撰 $g 楊末雄指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 94頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0002-854522
606 $a 核子工程 $3 41482
700 $a 詹育智 $4 撰 $3 93826
702 $a 楊末雄 $4 指導 $3 61040
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000517

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馆藏

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1

典藏地名称

馆藏流通类别

833449000000022

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 449 2708

1.一般(Normal)

[NT 15000103] null

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