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氣態源分子束磊晶法選擇成長技術之研究=selective epitaxy... ~ 台灣大學電機工程學系

 

• 氣態源分子束磊晶法選擇成長技術之研究=selective epitaxy technology on ingaasp

• 纪录类型:	[NT 13] Microfilm : 单行本
  作者:	林浩雄
  其他团体作者:	台灣大學電機工程學系
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  面页册数:	38頁 : 11x15公分;
  附注:	NSC84-2215-E002-007

• 氣態源分子束磊晶法選擇成長技術之研究=selective epitaxy technology on ingaasp
• 林浩雄
  
  氣態源分子束磊晶法選擇成長技術之研究=selective epitaxy technology on ingaasp / 林浩雄 ; 台灣大學電機工程學系 - 台北市 : 科學技術資料中心 - 38頁 ; 11x15公分.
  NSC84-2215-E002-007.

• 氣態源分子束磊晶法選擇成長技術之研究=selective epitaxy technology on ingaasp
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条形码号	典藏地名称	馆藏流通类别	数据类型	索书号	使用类型	借阅状态	预约状态	Opac备注	附件
804448610000018	三樓視聽資料區	3.不外借	微縮資料(microform)	MF 448.61 4499	1.一般(Normal)	在架	0

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