半導體薄膜界面反應及結構研究-子計畫四:氮化鈦.金屬及金屬矽化物在矽.鍺...
成功大學材料科學及工程學系

 

  • 半導體薄膜界面反應及結構研究-子計畫四:氮化鈦.金屬及金屬矽化物在矽.鍺.碳化矽晶片上生長行為=study of growth behavior and m
  • 紀錄類型: 微縮資料 : 單行本
    作者: 林文台
    其他團體作者: 成功大學材料科學及工程學系
    出版地: 台北市
    出版者: 科學技術資料中心;
    面頁冊數: 64頁 : 11x15公分;
    附註: NSC84-2215-E006-009
館藏
  • 1 筆 • 頁數 1 •
 
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