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快速熱技術在矽金氧半元件制程之應用=application of rap...
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台灣大學電機工程學系
快速熱技術在矽金氧半元件制程之應用=application of rapid thermal technique on the fabrication process of silicon mos devi
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
胡振國
其他團體作者:
台灣大學電機工程學系
出版地:
台北市
出版者:
科學技術資料中心;
面頁冊數:
120頁 : 11x15公分;
附註:
NSC852215E002025
快速熱技術在矽金氧半元件制程之應用=application of rapid thermal technique on the fabrication process of silicon mos devi
胡振國
快速熱技術在矽金氧半元件制程之應用=application of rapid thermal technique on the fabrication process of silicon mos devi
/ 胡振國 ; 台灣大學電機工程學系 - 台北市 : 科學技術資料中心 - 120頁 ; 11x15公分.
NSC852215E002025.
快速熱技術在矽金氧半元件制程之應用=application of rapid thermal technique on the fabrication process of silicon mos devi
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19991105
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三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
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804448680000003
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3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.68 4762 V1
1.一般(Normal)
在架
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804448680000005
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.68 4762 V2
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