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快速加熱氧化氮和化學氣相沉積對極大型機體電路製程技術之研究=rapid ...

交通大學電子工程研究所

快速加熱氧化氮和化學氣相沉積對極大型機體電路製程技術之研究=rapid thermal oxidation,nitridation and chemical vapoor depos

Record Type:	Microfilm : monographic
Author:	羅正忠
Secondary Intellectual Responsibility:	交通大學電子工程研究所
Place of Publication:	台北市
Published:	科學技術資料中心;
Description:	27頁 : 11x15公分;
Subject:	電子工程 -
Notes:	NSC84-2215-E009-002

快速加熱氧化氮和化學氣相沉積對極大型機體電路製程技術之研究=rapid thermal oxidation,nitridation and chemical vapoor depos
羅正忠

快速加熱氧化氮和化學氣相沉積對極大型機體電路製程技術之研究=rapid thermal oxidation,nitridation and chemical vapoor depos / 羅正忠 ; 交通大學電子工程研究所 - 台北市 : 科學技術資料中心 - 27頁 ; 11x15公分.
NSC84-2215-E009-002.
電子工程

快速加熱氧化氮和化學氣相沉積對極大型機體電路製程技術之研究=rapid thermal oxidation,nitridation and chemical vapoor depos
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