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光學薄膜製鍍技術及應用
~
李正中
光學薄膜製鍍技術及應用
レコード種別:
言語・文字資料 (印刷物) : モノグラフ
著者:
衛泰宇
副次的な著作責任 :
李正中
出版地:
台北市
出版された:
行政院國家科學委員會;
出版年:
1998
記述:
73頁 : 21x15公分;
シリーズ:
光電科技資料叢書27
光學薄膜製鍍技術及應用
衛泰宇
光學薄膜製鍍技術及應用
/ 衛泰宇 著 ; 李正中 著 - 台北市 : 行政院國家科學委員會, 1998. - 73頁 ; 21x15公分. - (光電科技資料叢書 ; 27).
李正中
光學薄膜製鍍技術及應用
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大葉大學
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19990426
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