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熱氮化反應對磷在<100>矽晶片中擴散之效應研究=effect of t... ~ 台灣工業技術學院化學工程技術系

 

• 熱氮化反應對磷在<100>矽晶片中擴散之效應研究=effect of thermal nitridation on phosphorus diffusion in <100> silicon

• 紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
  其他作者:	李嘉平
  團體作者:	台灣工業技術學院化學工程技術系
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  出版年:	1994
  面頁冊數:	72頁 : 11x15公分;
  附註:	NSC83-0402-E011-001

• 熱氮化反應對磷在<100>矽晶片中擴散之效應研究=effect of thermal nitridation on phosphorus diffusion in <100> silicon
• 台灣工業技術學院化學工程技術系
  
  熱氮化反應對磷在<100>矽晶片中擴散之效應研究=effect of thermal nitridation on phosphorus diffusion in <100> silicon / 台灣工業技術學院化學工程技術系 ; 李嘉平 著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1994. - 72頁 ; 11x15公分.
  NSC83-0402-E011-001.
  
  李嘉平

• 熱氮化反應對磷在<100>矽晶片中擴散之效應研究=effect of thermal nitridation on phosphorus diffusion in <100> silicon
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條碼號	典藏地名稱	館藏流通類別	資料類型	索書號	使用類型	借閱狀態	預約狀態	備註欄	附件
804460000000786	三樓視聽資料區	3.不外借	微縮資料(microform)	MF 460 XXXX	1.一般(Normal)	在架	0

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