回上页

切换: 标签 | MARC模式 | ISBD

去有機金屬氣相沈積法成長高效率&摻雜之漸變砷化銦鎵/砷化鎵高電子移動率電... ~ 成功大學電機工程研究所

 

• 去有機金屬氣相沈積法成長高效率&摻雜之漸變砷化銦鎵/砷化鎵高電子移動率電晶體及其理論模擬=the fabrication and simulation...

• 纪录类型:	[NT 13] Microfilm : 单行本
  其他作者:	許渭州
  团体作者:	成功大學電機工程研究所
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  出版年:	1993
  面页册数:	57頁 : 11x15公分;
  附注:	NSC82-0404-E006-431

• 去有機金屬氣相沈積法成長高效率&摻雜之漸變砷化銦鎵/砷化鎵高電子移動率電晶體及其理論模擬=the fabrication and simulation...
• 成功大學電機工程研究所
  
  去有機金屬氣相沈積法成長高效率&摻雜之漸變砷化銦鎵/砷化鎵高電子移動率電晶體及其理論模擬=the fabrication and simulation... / 成功大學電機工程研究所 ; 許渭州 著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1993. - 57頁 ; 11x15公分.
  NSC82-0404-E006-431.
  
  許渭州

• 去有機金屬氣相沈積法成長高效率&摻雜之漸變砷化銦鎵/砷化鎵高電子移動率電晶體及其理論模擬=the fabrication and simulation...
• LDR:00512nhm 2200133 450 001 64523
  009 8509881
  100 $a  20100607d1993 0chiy0900 e
  101 $a  chi
  102 $a  tw
  200 1 $a  去有機金屬氣相沈積法成長高效率&摻雜之漸變砷化銦鎵/砷化鎵高電子移動率電晶體及其理論模擬=the fabrication and simulation... $f  成功大學電機工程研究所 $g  許渭州 著
  210 $a  台北市 $c  科學技術資料中心 $d  1993
  215 $a  57頁 $d  11x15公分
  300 $a  NSC82-0404-E006-431
  702 $a  許渭州 $4  著 $3  62801
  710 $a  成功大學電機工程研究所 $3  62283
  801 1 $a  TW $b  大葉大學 $c  19960729
  

读者评论 0 笔

全部 三樓視聽資料區

馆藏

• 1 笔 • 页数 1 •
• 1

条形码号	典藏地名称	馆藏流通类别	数据类型	索书号	使用类型	借阅状态	预约状态	Opac备注	附件
804448000000308	三樓視聽資料區	3.不外借	微縮資料(microform)	MF 448 XXXX	1.一般(Normal)	在架	0

• 1 笔 • 页数 1 •
• 1

评论

• 新增评论 分享你的心得

2008 传技信息 最佳浏览使用FireFox或IE7.0以上版本 建议您至http://moztw.org/或http://www.microsoft.com/taiwan/windows/ie/downloads/default.mspx下载 v3.1.1.2