去mocud法研製量子井& 摻雜砷化鎵/砷化銦鎵應力層高電子移動率電晶體...
成功大學電機工程研究所

 

  • 去mocud法研製量子井& 摻雜砷化鎵/砷化銦鎵應力層高電子移動率電晶體=the fabrication of quantum well &-doped gaas/ingaas s..
  • レコード種別: マイクロフィルム : モノグラフ
    著者: 許渭州
    副次的な著作責任 : 成功大學電機工程研究所
    出版地: 台北市
    出版された: 科學技術資料中心;
    出版年: 1991
    記述: 90頁 : 11x15公分;
    注記: NSC80-0404-E006-057
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