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應用n2o多次性氮化氧化層對mos元件可靠度之改善
~
林彥伯
應用n2o多次性氮化氧化層對mos元件可靠度之改善
Record Type:
Microfilm : monographic
Author:
林彥伯
Secondary Intellectual Responsibility:
清華大學工程與系統科學所
Published:
行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
Year of Publication:
1999
Description:
94頁 : 11x15公分;
Subject:
工程與系統科學 -
Notes:
MOE88-0002-873139
應用n2o多次性氮化氧化層對mos元件可靠度之改善
林彥伯
應用n2o多次性氮化氧化層對mos元件可靠度之改善
/ 林彥伯 撰 ; 清華大學工程與系統科學所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 94頁 ; 11x15公分.
MOE88-0002-873139.
工程與系統科學
應用n2o多次性氮化氧化層對mos元件可靠度之改善
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20030123
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833440000001197
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3.不外借
微縮資料(microform)
MF 440 4402-F
1.一般(Normal)
[NT 15000103]
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