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以低壓化學氣相沈積法配合兩階段快速熱處理對閘極氮化矽電特性之影響

~

林春桃

以低壓化學氣相沈積法配合兩階段快速熱處理對閘極氮化矽電特性之影響

レコード種別:	マイクロフィルム : モノグラフ
著者:	林春桃
副次的な著作責任 :	清華大學工程與系統科學所
出版された:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
記述:	112頁 : 11x15公分;
主題:	工程與系統科學 -
注記:	MOE88-0002-873119

以低壓化學氣相沈積法配合兩階段快速熱處理對閘極氮化矽電特性之影響
林春桃

以低壓化學氣相沈積法配合兩階段快速熱處理對閘極氮化矽電特性之影響 / 林春桃撰 ; 清華大學工程與系統科學所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 112頁 ; 11x15公分.
MOE88-0002-873119.
工程與系統科學

以低壓化學氣相沈積法配合兩階段快速熱處理對閘極氮化矽電特性之影響
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