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高密度電漿蝕刻特性之研究
~
清華大學工程與系統科學所
高密度電漿蝕刻特性之研究
纪录类型:
[NT 13] Microfilm : 单行本
作者:
羅偉瑞
其他团体作者:
清華大學工程與系統科學所
出版者:
行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:
1999
面页册数:
67頁 : 11x15公分;
标题:
工程與系統科學 -
附注:
MOE88-0002-873114
高密度電漿蝕刻特性之研究
羅偉瑞
高密度電漿蝕刻特性之研究
/ 羅偉瑞 撰 ; 清華大學工程與系統科學所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 67頁 ; 11x15公分.
MOE88-0002-873114.
工程與系統科學
高密度電漿蝕刻特性之研究
LDR
:00376nhm 2200133 450
001
306163
009
9128788
100
$a
20100608d1999 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
高密度電漿蝕刻特性之研究
$f
羅偉瑞 撰
$g
清華大學工程與系統科學所
210
$c
行政院國家科學委員會科學技術資料中心
$d
1999
215
$a
67頁
$d
11x15公分
300
$a
MOE88-0002-873114
606
$a
工程與系統科學
$3
93547
700
$a
羅偉瑞
$4
撰
$3
329560
712
$a
清華大學工程與系統科學所
$3
317510
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
20030123
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馆藏
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典藏地名称
馆藏流通类别
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借阅状态
预约状态
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附件
833440000001181
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3.不外借
微縮資料
MF 440 6021-B
1.一般(Normal)
[NT 15000103] null
0
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