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溝槽式閘極功率電晶體之閘極氧化層及通道電子遷移率應力效應評估

~

曾仁洲

溝槽式閘極功率電晶體之閘極氧化層及通道電子遷移率應力效應評估

纪录类型:	[NT 13] Microfilm : 单行本
作者:	曾仁洲
其他团体作者:	清華大學工程與系統科學所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面页册数:	117頁 : 11x15公分;
标题:	工程與系統科學 -
附注:	MOE88-0002-873113

溝槽式閘極功率電晶體之閘極氧化層及通道電子遷移率應力效應評估
曾仁洲

溝槽式閘極功率電晶體之閘極氧化層及通道電子遷移率應力效應評估 / 曾仁洲撰 ; 清華大學工程與系統科學所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 117頁 ; 11x15公分.
MOE88-0002-873113.
工程與系統科學

溝槽式閘極功率電晶體之閘極氧化層及通道電子遷移率應力效應評估
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馆藏

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典藏地名称

馆藏流通类别

833440000001179

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 440 8023-A V1

1.一般(Normal)

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0

833440000001180

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 440 8023-A V2

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