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反應性射頻濺鍍高c軸排向氮化鋁薄膜之研究及其元件應用(ii)
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國立中山大學電機工程學系
反應性射頻濺鍍高c軸排向氮化鋁薄膜之研究及其元件應用(ii)
Record Type:
Microfilm : monographic
Author:
陳英忠
Secondary Intellectual Responsibility:
國立中山大學電機工程學系
Place of Publication:
台北市
Published:
行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
Description:
69頁 : 11x15公分;
Subject:
電機工程 -
Notes:
NSC86-2216-E110-019
反應性射頻濺鍍高c軸排向氮化鋁薄膜之研究及其元件應用(ii)
陳英忠
反應性射頻濺鍍高c軸排向氮化鋁薄膜之研究及其元件應用(ii)
/ 陳英忠 撰 ; 國立中山大學電機工程學系 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 69頁 ; 11x15公分.
NSC86-2216-E110-019.
電機工程
反應性射頻濺鍍高c軸排向氮化鋁薄膜之研究及其元件應用(ii)
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20020410
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3.不外借
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MF 448 7545-3
1.一般(Normal)
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