大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

應用於ulsi之「金屬化鋁層/鈦化合物阻礙層/矽」系統高溫濺鍍的界面反應行為

~

逢甲大學材料學學系

應用於ulsi之「金屬化鋁層/鈦化合物阻礙層/矽」系統高溫濺鍍的界面反應行為

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	陳錦山
其他團體作者:	逢甲大學材料學學系
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:	7頁 : 11x15公分;
標題:	工程材料 -
附註:	NSC86-2215-E035-003

應用於ulsi之「金屬化鋁層/鈦化合物阻礙層/矽」系統高溫濺鍍的界面反應行為
陳錦山

應用於ulsi之「金屬化鋁層/鈦化合物阻礙層/矽」系統高溫濺鍍的界面反應行為 / 陳錦山撰 ; 逢甲大學材料學學系 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 7頁 ; 11x15公分.
NSC86-2215-E035-003.
工程材料

應用於ulsi之「金屬化鋁層/鈦化合物阻礙層/矽」系統高溫濺鍍的界面反應行為
LDR:00431nhm 2200133 450 001 302522
009 9110827
100 $a 20100608 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 應用於ulsi之「金屬化鋁層/鈦化合物阻礙層/矽」系統高溫濺鍍的界面反應行為 $f 陳錦山撰 $g 逢甲大學材料學學系
210 $a 台北市 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心
215 $a 7頁 $d 11x15公分
300 $a NSC86-2215-E035-003
606 $a 工程材料 $3 14660
700 $a 陳錦山 $4 撰 $3 79326
712 $a 逢甲大學材料學學系 $3 326777
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20020326

筆 0 讀者評論

館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

804440300000822

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 440.3 7581

1.一般(Normal)

在架

0

1 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入