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化學氣相沉積積擴散障礙層和鋁在極大型積體電路金屬連線之光導性研究(Ⅲ)

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國立交通大學電子工程學系

化學氣相沉積積擴散障礙層和鋁在極大型積體電路金屬連線之光導性研究(Ⅲ)

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	蘇翔
其他團體作者:	國立交通大學電子工程學系
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:	41頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	NSC86-2215-E009-045

化學氣相沉積積擴散障礙層和鋁在極大型積體電路金屬連線之光導性研究(Ⅲ)
蘇翔

化學氣相沉積積擴散障礙層和鋁在極大型積體電路金屬連線之光導性研究(Ⅲ) / 蘇翔撰 ; 國立交通大學電子工程學系 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 41頁 ; 11x15公分.
NSC86-2215-E009-045.
電子工程

化學氣相沉積積擴散障礙層和鋁在極大型積體電路金屬連線之光導性研究(Ⅲ)
LDR:00437nhm 2200133 450 001 302503
009 9110775
100 $a 20100608 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 化學氣相沉積積擴散障礙層和鋁在極大型積體電路金屬連線之光導性研究(Ⅲ) $f 蘇翔撰 $g 國立交通大學電子工程學系
210 $a 台北市 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心
215 $a 41頁 $d 11x15公分
300 $a NSC86-2215-E009-045
606 $a 電子工程 $3 505
700 $a 蘇翔 $4 撰 $3 62312
712 $a 國立交通大學電子工程學系 $3 78731
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20020326

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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

804621381000441

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 621.381 4487-5

1.一般(Normal)

在架

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