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發展"微波電漿放電後氧化法"暨"電子迴旋共振電漿氧化法"製作極薄氧化層及...

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國立清華大學電機工程學系

發展"微波電漿放電後氧化法"暨"電子迴旋共振電漿氧化法"製作極薄氧化層及其可靠度之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	黃惠良
其他團體作者:	國立清華大學電機工程學系
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:	129頁 : 11x15公分;
標題:	電機工程 -
附註:	NSC85-2215-E007-025

發展"微波電漿放電後氧化法"暨"電子迴旋共振電漿氧化法"製作極薄氧化層及其可靠度之研究
黃惠良

發展"微波電漿放電後氧化法"暨"電子迴旋共振電漿氧化法"製作極薄氧化層及其可靠度之研究 / 黃惠良撰 ; 國立清華大學電機工程學系 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 129頁 ; 11x15公分.
NSC85-2215-E007-025.
電機工程

發展"微波電漿放電後氧化法"暨"電子迴旋共振電漿氧化法"製作極薄氧化層及其可靠度之研究
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210 $a 台北市 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心
215 $a 129頁 $d 11x15公分
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館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

804621300000656

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 621.3 4453-1 V1

1.一般(Normal)

在架

0

804621300000657

三樓視聽資料區

3.不外借

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MF 621.3 4453-1 V2

1.一般(Normal)

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0

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