大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

半導體薄膜界面反應與結構研究-子計畫二:硼合金與砷化鎵蕭基接面之熱穩定性(ii)

~

國立清華大學材料科學工程學系

半導體薄膜界面反應與結構研究-子計畫二:硼合金與砷化鎵蕭基接面之熱穩定性(ii)

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	黃倉秀
其他團體作者:	國立清華大學材料科學工程學系
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:	60頁 : 11x15公分;
標題:	材料工程 -
附註:	NSC85-2215-E007-021

半導體薄膜界面反應與結構研究-子計畫二:硼合金與砷化鎵蕭基接面之熱穩定性(ii)
黃倉秀

半導體薄膜界面反應與結構研究-子計畫二:硼合金與砷化鎵蕭基接面之熱穩定性(ii) / 黃倉秀撰 ; 國立清華大學材料科學工程學系 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 60頁 ; 11x15公分.
NSC85-2215-E007-021.
材料工程

半導體薄膜界面反應與結構研究-子計畫二:硼合金與砷化鎵蕭基接面之熱穩定性(ii)
LDR:00453nhm 2200133 450 001 299462
009 9102579
100 $a 20100608 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 半導體薄膜界面反應與結構研究-子計畫二:硼合金與砷化鎵蕭基接面之熱穩定性(ii) $f 黃倉秀撰 $g 國立清華大學材料科學工程學系
210 $a 台北市 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心
215 $a 60頁 $d 11x15公分
300 $a NSC85-2215-E007-021
606 $a 材料工程 $3 79401
700 $a 黃倉秀 $4 撰 $3 63374
712 $a 國立清華大學材料科學工程學系 $3 90655
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20020121

筆 0 讀者評論

館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

804440300000672

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 440.3 4482

1.一般(Normal)

在架

0

1 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入