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高介電鈦酸鍶鋇薄膜電容元件之電漿蝕刻特性研究

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大葉大學電機工程所

高介電鈦酸鍶鋇薄膜電容元件之電漿蝕刻特性研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	廖芳慶
其他團體作者:	大葉大學電機工程所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	114頁 : 11x15公分;
標題:	電機工程 -
附註:	MOE88-1111-R8703032

高介電鈦酸鍶鋇薄膜電容元件之電漿蝕刻特性研究
廖芳慶

高介電鈦酸鍶鋇薄膜電容元件之電漿蝕刻特性研究 / 廖芳慶撰 ; 大葉大學電機工程所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 114頁 ; 11x15公分.
MOE88-1111-R8703032.
電機工程

高介電鈦酸鍶鋇薄膜電容元件之電漿蝕刻特性研究
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215 $a 114頁 $d 11x15公分
300 $a MOE88-1111-R8703032
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館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833448000003457

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 448 0040-B V1

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

833448000003458

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 448 0040-B V2

1.一般(Normal)

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