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利用射頻濺鍍製成硫化鐵鎘薄膜及其特性之研究

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交通大學電子物理所

利用射頻濺鍍製成硫化鐵鎘薄膜及其特性之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	劉家楨
其他團體作者:	交通大學電子物理所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	66頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	MOE88-0007-8621530

利用射頻濺鍍製成硫化鐵鎘薄膜及其特性之研究
劉家楨

利用射頻濺鍍製成硫化鐵鎘薄膜及其特性之研究 / 劉家楨撰 ; 交通大學電子物理所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 66頁 ; 11x15公分.
MOE88-0007-8621530.
電子工程

利用射頻濺鍍製成硫化鐵鎘薄膜及其特性之研究
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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833448600000998

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3.不外借

微縮資料

MF 448.6 7234

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