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以濺鍍方式沈積鉭-矽-氮擴散障礙層在銅金屬應用上之研究

~

孫喜眾

以濺鍍方式沈積鉭-矽-氮擴散障礙層在銅金屬應用上之研究

纪录类型:	[NT 13] Microfilm : 单行本
作者:	葉興強
其他作者:	羅正忠
其他作者:	孫喜眾
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面页册数:	138頁 : 11x15公分;
标题:	電子工程 -
附注:	MOE86-0007-8511527

以濺鍍方式沈積鉭-矽-氮擴散障礙層在銅金屬應用上之研究
葉興強

以濺鍍方式沈積鉭-矽-氮擴散障礙層在銅金屬應用上之研究 / 葉興強撰 ; 羅正忠指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 138頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8511527.
電子工程

羅正忠

以濺鍍方式沈積鉭-矽-氮擴散障礙層在銅金屬應用上之研究
LDR:00414nhm 2200133 450 001 105776
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101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 以濺鍍方式沈積鉭-矽-氮擴散障礙層在銅金屬應用上之研究 $f 葉興強撰 $g 羅正忠指導 $g 孫喜眾指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 138頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0007-8511527
606 $a 電子工程 $3 505
700 $a 葉興強 $4 撰 $3 95057
702 $a 羅正忠 $4 指導 $3 62821
702 $a 孫喜眾 $4 指導 $3 95058
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000524

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馆藏

2 笔 • 页数 1 •
1

典藏地名称

馆藏流通类别

833448600000150

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 448.6 4471 V1

1.一般(Normal)

[NT 15000103] null

0

833448600000151

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 448.6 4471 V2

1.一般(Normal)

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