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快速熱氧化層熱分析及厚度均勻度改善之研究

~

張弘

快速熱氧化層熱分析及厚度均勻度改善之研究

纪录类型:	[NT 13] Microfilm : 单行本
作者:	張弘
其他作者:	胡振國
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面页册数:	91頁 : 11x15公分;
标题:	電機工程 -
附注:	MOE86-0003-R85523076

快速熱氧化層熱分析及厚度均勻度改善之研究
張弘

快速熱氧化層熱分析及厚度均勻度改善之研究 / 張弘撰 ; 胡振國指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 91頁 ; 11x15公分.
MOE86-0003-R85523076.
電機工程

胡振國

快速熱氧化層熱分析及厚度均勻度改善之研究
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200 1 $a 快速熱氧化層熱分析及厚度均勻度改善之研究 $f 張弘撰 $g 胡振國指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 91頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0003-R85523076
606 $a 電機工程 $3 9918
700 $a 張弘 $4 撰 $3 94329
702 $a 胡振國 $4 指導 $3 2917
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000519

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馆藏

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1

典藏地名称

馆藏流通类别

833448000000356

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 448 1113

1.一般(Normal)

[NT 15000103] null

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