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非晶矽氫(氘)薄膜電晶體研製及穩定度之研究
~
李嗣涔
非晶矽氫(氘)薄膜電晶體研製及穩定度之研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
魏拯華
其他作者:
李嗣涔
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
152頁 : 11x15公分;
標題:
電機工程 -
附註:
MOE86-0003-D82503008-D
非晶矽氫(氘)薄膜電晶體研製及穩定度之研究
魏拯華
非晶矽氫(氘)薄膜電晶體研製及穩定度之研究
/ 魏拯華 撰 ; 李嗣涔 指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 152頁 ; 11x15公分.
MOE86-0003-D82503008-D.
電機工程
李嗣涔
非晶矽氫(氘)薄膜電晶體研製及穩定度之研究
LDR
:00382nhm 2200133 450
001
104760
009
8907727
100
$a
20100607 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
非晶矽氫(氘)薄膜電晶體研製及穩定度之研究
$f
魏拯華 撰
$g
李嗣涔 指導
210
$a
台北市
$c
國科會科學技術資料中心
215
$a
152頁
$d
11x15公分
300
$a
MOE86-0003-D82503008-D
606
$a
電機工程
$3
9918
700
$a
魏拯華
$4
撰
$3
94019
702
$a
李嗣涔
$4
指導
$3
34186
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
20000518
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三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
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典藏地名稱
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資料類型
索書號
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833448000000059
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3.不外借
微縮資料
MF 448 2254 V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
833448000000060
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料
MF 448 2254 V2
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
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