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修飾化正光阻的定性及其在微影製程上的影響

~

朱鐵吉

修飾化正光阻的定性及其在微影製程上的影響

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	黃慧玲
其他作者:	朱鐵吉
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	101頁 : 11x15公分;
標題:	核子工程 -
附註:	MOE86-0002-854519

修飾化正光阻的定性及其在微影製程上的影響
黃慧玲

修飾化正光阻的定性及其在微影製程上的影響 / 黃慧玲撰 ; 朱鐵吉指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 101頁 ; 11x15公分.
MOE86-0002-854519.
核子工程

朱鐵吉

修飾化正光阻的定性及其在微影製程上的影響
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200 1 $a 修飾化正光阻的定性及其在微影製程上的影響 $f 黃慧玲撰 $g 朱鐵吉指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 101頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0002-854519
606 $a 核子工程 $3 41482
700 $a 黃慧玲 $4 撰 $3 48568
702 $a 朱鐵吉 $4 指導 $3 41325
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000517

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館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833449000000017

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 449 4427 V1

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

833449000000018

三樓視聽資料區

3.不外借

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MF 449 4427 V2

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