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二氧化矽薄膜研製暨靜態讀寫擦測試系統改良研究
~
丁肇酉
二氧化矽薄膜研製暨靜態讀寫擦測試系統改良研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
林政毅
其他作者:
丁肇酉
其他作者:
周麗新
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
48頁 : 11x15公分;
標題:
物理 -
附註:
MOE86-0002-853366
二氧化矽薄膜研製暨靜態讀寫擦測試系統改良研究
林政毅
二氧化矽薄膜研製暨靜態讀寫擦測試系統改良研究
/ 林政毅 撰 ; 丁肇酉 指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 48頁 ; 11x15公分.
MOE86-0002-853366.
物理
丁肇酉
二氧化矽薄膜研製暨靜態讀寫擦測試系統改良研究
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大葉大學
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20000517
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全部
三樓視聽資料區
館藏
1 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
833330000000024
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料
MF 330 4410
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
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